Halogenfreie flammhemmende Beschichtung für Gewebe und Vliesstoffe im ALD-Verfahren

© Fraunhofer IST
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Beschichtungsmerkmale der Atomlagenabscheidung (ALD):

Oxid-Passivierung als Diffusionsbarriere

Hohe Uniformität und Konformität bei 3D-Geometrien

Transparente ultradünne Schichten (< 10 nm)

Niedertemperatur-Prozessfenster (< 70 °C)